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太陽能硅板檢測儀DJM-200C

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產(chǎn)品簡介

晶圓檢測儀，多晶硅缺陷分析儀，太陽能硅板檢測儀，太陽能光伏單晶硅片缺陷分析?蔡康晶圓檢測儀，多晶硅缺陷分析儀，太陽能硅板檢測儀DJM-200C概述和硅片缺陷檢測方法和應(yīng)用范圍：

詳細(xì)介紹

蔡康晶圓硅片缺陷觀測儀（DJM-200C），于對硅片的缺陷進(jìn)行觀察，效果非常明顯，包括肉眼無法觀測的位錯、層錯、劃痕、崩邊等。

光伏硅片質(zhì)量檢測中，有很多項(xiàng)目，比如：破片、缺角、孔洞和翹曲等等。為什么會有這些檢測項(xiàng)目？有些項(xiàng)目很容易理解，比如：破片、缺角等不僅會影響賣相，還會造成后續(xù)電池片生產(chǎn)的問題，甚至影響轉(zhuǎn)換效率。但孔洞，尤其是很小很小的孔洞，似乎沒什么大不了。其實(shí)不然，新的研究表明，小小的孔會造成大大的問題。就好像千里之堤，毀于蟻穴。

晶圓檢測儀，多晶硅缺陷分析儀，太陽能硅板檢測儀，太陽能光伏單晶硅片缺陷分析

一：蔡康晶圓檢測儀，多晶硅缺陷分析儀，太陽能硅板檢測儀DJM-200C概述和硅片缺陷檢測方法和應(yīng)用范圍：

（一）光伏硅片質(zhì)量檢測中，有很多項(xiàng)目，比如：破片、缺角、孔洞和翹曲等等。為什么會有這些檢測項(xiàng)目？有些項(xiàng)目很容易理解，比如：破片、缺角等不僅會影響賣相，還會造成后續(xù)電池片生產(chǎn)的問題，甚至影響轉(zhuǎn)換效率。但孔洞，尤其是很小很小的孔洞，似乎沒什么大不了。其實(shí)不然，的研究表明，小小的孔會造成大大的問題。就好像千里之堤，毀于蟻穴。
　　1.孔洞：大量存在，3～10um，人眼不易發(fā)現(xiàn)。必須用背光源。
　　孔洞的危害：經(jīng)研究發(fā)現(xiàn)***，硅晶片上孔洞會造成加工成電池片的短路，降低電池片的轉(zhuǎn)換效率；如果因?yàn)楣杵系目锥葱纬傻亩搪穳K剛好落在柵線上，就會造成大面積的短路，加大電池片的漏電流，影響轉(zhuǎn)換效率。所以必須檢測孔洞，一般人眼能分辨0.3mm以上的孔洞，0.003～0.01mm的孔洞只能借助與光學(xué)的檢測手段來實(shí)現(xiàn)。檢測時需采用高亮度的白色背光源，穿透力強(qiáng)的光經(jīng)過孔洞后，部分頻率的分量會使相機(jī)感光，形成藍(lán)綠色的成像。相機(jī)的像素分辨率需要做得很高，比如一個像素等于0.005mm，這樣有機(jī)會捕捉到3um～10um孔透過的光，并由軟件識別。
　　2.硅片翹曲或彎曲：不能忽視。硅片翹曲不僅使得做成電池片后尺寸不合乎要求，而且還會造成斷柵。
　　研究表明：因?yàn)楣杵N曲，做成電池片后，通過EL檢測，發(fā)現(xiàn)里面有絲狀裂紋或花斑，但做成模組后，花斑情況有改善。分析表明，因?yàn)殡姵仄N曲（根源上是硅片翹曲），在絲印時會造成印刷不均勻，形成斷柵。
　　硅片的翹曲需要采用3D的檢測方法，具體表征硅片翹曲的指標(biāo)有TTV、MTV等等。檢測的方法可以采用將結(jié)構(gòu)光（線激光）投射到硅片上，用相機(jī)進(jìn)行拍照；通過軟件分析光線成像的幾何特征，可以計算出TTV、MTV等指標(biāo)，跟標(biāo)準(zhǔn)值進(jìn)行比對，可以得出硅片翹曲是否在可以接受的范圍。
　　以上兩點(diǎn)，是的研究發(fā)現(xiàn)。如果檢測不到位，“后果很嚴(yán)重"。電池片廠家在來料檢測上，不可不注意。
　　產(chǎn)品介紹：
　　蔡康晶圓硅片缺陷觀測儀（DJM-200C），于對硅片的缺陷進(jìn)行觀察，效果非常明顯，包括肉眼無法觀測的位錯、層錯、劃痕、崩邊等。
　　實(shí)時對圖像進(jìn)行分析、測量和統(tǒng)計，提高傳統(tǒng)光學(xué)儀器的使用內(nèi)涵。配合投影儀和計算機(jī)等顯示、存儲設(shè)備，能更好的觀測和保存研究結(jié)果；
　　硅片缺陷觀測儀-產(chǎn)品特點(diǎn)
　　■適用于對硅片的缺陷觀察效果，非常明顯，包括肉眼無法觀測的位錯、層錯、劃痕、崩邊等；
　　■使硅片缺陷觀察工作簡單化，準(zhǔn)確化，同時極大程度降低此項(xiàng)工作強(qiáng)度；
　　■實(shí)時對圖像進(jìn)行分析、測量和統(tǒng)計，提高傳統(tǒng)光學(xué)儀器的使用內(nèi)涵。配合投影儀和計算機(jī)等顯示、存儲設(shè)備，能更好的觀測和保存研究結(jié)果；
　　■使用　數(shù)字CCD攝像機(jī)　感光芯片，具有體積小，技術(shù)，像素較高，成像清晰、線條細(xì)膩、色彩豐富；
　　■傳輸接口為　USB2.0高速接口，軟件模塊化設(shè)計；
　　■有效分辨率為　1000萬像素；
　　■所配軟件能兼容　windows　7和　windows　XP　操作系統(tǒng)。

蔡康晶圓缺陷分析儀DJM-200C,太陽能單晶硅片缺陷分析

（三）蔡康太陽能光伏單晶硅片缺陷分析儀技術(shù)介紹和儀器組成

   一、大平臺太陽能硅片缺陷分析金相顯微鏡儀器的主要用途和特點(diǎn)
       DJM-200C系列反射明暗場大平臺太陽能硅片缺陷分析金相顯微鏡可進(jìn)行明視場、暗視場、簡易偏光觀察。是半導(dǎo)體檢驗(yàn)、電路封狀、電路基板、材料等行業(yè)理想儀器。 DMM-990大平臺晶圓缺陷分析金相顯微鏡具有圖像清晰、襯度好，造型美觀，操作方便等特點(diǎn)，是材料學(xué)、金屬學(xué)、礦物學(xué)、精密工程學(xué)、電子學(xué)等研究的理想儀器。適用于學(xué)校、科研、工廠等部門使用。 DMM-990高級正置金相顯微鏡，選用優(yōu)質(zhì)的光學(xué)元件，配有超大視場目鏡、落射照明器、平場長工作距離明暗場物鏡，是針對半導(dǎo)體晶圓檢測、太陽能硅片制造業(yè)、電子信息產(chǎn)業(yè)、治金工業(yè)開發(fā)的，作為高級工業(yè)金相顯微鏡使用?？蛇M(jìn)行明暗場觀察、落射偏光、廣泛用于工廠、研究機(jī)構(gòu)、高等院校對太陽能電池硅片、半導(dǎo)體晶圓檢測、電路基板、FPD、精密模具的檢測分析。
性能特點(diǎn)
▲      配置大視野目鏡和長距平場消色差物鏡(無蓋玻片)，視場大而清晰。
▲      粗微動同軸調(diào)焦機(jī)構(gòu)，粗動松緊可調(diào)，帶限位鎖緊裝置，微動格值:0.8μm。
▲      配置大移動范圍栽物臺，移動范圍：8英寸*8英寸（204mm*204mm)。
▲      三目鏡筒,可自由切換正常觀察與偏光觀察，明視場/，可進(jìn)行99%透光攝影。
▲      6V30W鹵素?zé)?，亮度可調(diào)。
   DMM-990C電腦型三目正置大平臺單晶硅缺陷分析儀金相顯微鏡是將精銳的光學(xué)顯微鏡技術(shù)、的光電轉(zhuǎn)換技術(shù)、的計算機(jī)成像技術(shù)地結(jié)合在一起而開發(fā)研制成功的一項(xiàng)高科技產(chǎn)品。既可人工觀察金相圖像,又可以在數(shù)碼相機(jī)顯示器上很方便地適時觀察金相圖像，并可隨時捕捉記錄金相圖片,從而對金相圖譜進(jìn)行分析,評級等,還可以保存或打印出高像素金相照片。

太陽能光伏單晶硅片缺陷分析儀DJM-200C

（二）蔡康硅片缺陷分析儀DJM-200C性能特點(diǎn)和系統(tǒng)組成：

1. 蔡康單晶硅缺陷分析儀DJM-200C利用工業(yè)級彩色高速攝象器進(jìn)行圖像或者視頻采集，高倍蔡康光學(xué)單晶硅片顯微鏡放大成像，圖像快速顯示于計算機(jī)，直接實(shí)時觀察熔深焊接形貌，利用專用軟件進(jìn)行熔深測量處理，形態(tài)統(tǒng)計分析，并打印出熔深分析報告。

型號	技術(shù)參數(shù)
目鏡	WF10X(Φ18mm)
物鏡	長距平場消色差物鏡（明視場）(無蓋玻片)PL 5X/0.12 WD:18.3mm
	長距平場消色差物鏡（明視場/暗視場）(無蓋玻片)PL L10X/0.25 WD:8.9mm
	長距平場消色差物鏡（明視場/暗視場）(無蓋玻片)PL L20X/0.40 WD:8.7mm
	長距平場消色差物鏡（明視場/暗視場）(無蓋玻片)PL L40X/0.60 WD:0.26mm
目鏡筒	三目鏡,傾斜30?
落射照明系統(tǒng)	6V 30W鹵素?zé)?/span>,亮度可調(diào)
落射照明系統(tǒng)	落射照明器帶視場光欄、孔徑光欄、起偏振片,(黃,藍(lán),綠)濾色片和磨砂玻璃
調(diào)焦機(jī)構(gòu)	載物臺升降，粗微動同軸調(diào)焦機(jī)構(gòu)，粗動松緊可調(diào)，帶限位鎖緊裝置，微動格值:0.8μm
轉(zhuǎn)換器	四孔(外向式滾珠內(nèi)定位)
載物臺	三層機(jī)械移動式(尺寸:280mmX270mm,移動范圍:204mmX204mm)